一类衍射光学元件的光学理论技与技术。
二元光学元件可以说是当前光学最新的研究的要点，不仅是i线光刻机可以利用该理论，在日后的DUV、EUV光刻机上，同样也会使用基于该理论的菲涅尔薄待透镜阵列，用于改良光刻机水平。
二元光学的主要着眼点就是采用量化的方法，将相息图连续变化的坡面用台阶来逼近，量化的次数越多，台阶数就越多，也就越趋于接近连续变化的坡面。
“听懂了吗？”萧炎似笑非笑地盯着王向中，“我已经讲得非常简单了。”
王向中闻言，点了点头，道：“如果用更通俗的方式来讲，其实就是利用光的衍射效应，强行在光源固定的情况下，增加更多的坡面，达到变相提升分辨率的办法。”
在光刻的曝光刻蚀这一步时，一般都是直接使用光源曝光光刻胶，形成一个一道一道的坑道，然后使用化学试剂将残余的变性光刻胶洗去，然后再进行掺杂工序。
而使用光栅后，能变相地形成更窄的坑道，也就达到了工艺提升的目标。
虽然这样做不可避免地在曝光刻蚀这一步增加了数百道工序，但在眼下来看，这已经是最佳的改良方式了。
萧炎见状，也是瞳孔一缩，这小子不简单，没想到还真是个行家！