当前位置:金光小说>女生耽美>大国院士> 第四百八十六章:芯片突破的希望
阅读设置(推荐配合 快捷键[F11] 进入全屏沉浸式阅读)

设置X

第四百八十六章:芯片突破的希望(1 / 3)

发布于2023-09-0922:16|vp章节

小别墅二楼,书房中,徐川烧了壶水用大长老送给他的茶叶泡了几杯清茶。

端递给两人后,他浅抿了一口后开口问道:“不知道丁先生这次紧急过来找我,到底有什么事情?”

丁经国放下手中的茶杯,思索了一下,组织了会语言后开口说:“这刚过年就过来冒昧打扰您,主要是涉及到一些芯片方面的事情,想请教一下徐院士您。”

闻言,徐川有些诧异的看了眼这位发改的大佬,好奇的问道:“芯片?”

丁经国点了点头,道:“是的,关于芯片方面的。”

微微顿了顿,他接着道:“在芯片方面,咱们目前面临的处境相当的严峻。近些年来,因为国际形势的变化,咱们很多的高科技企业遭到了来自一些西方企业恶意的技术封锁。”

“在垄断了芯片等行业的基础上,他们恶意的限制其他人购买产品和组件,包括电子芯片。致使其他企业迫不得已必须要交纳大额的保护费不说,还随时会违背契约精神,滥用和泛化安全概念。”

“当然,这次来呢,并不是向您诉苦。咱们也已经认识到了半导体产业的战略重要性,一直都在积极加大对研发投入的力度。”

“特别是在高端芯片领域,鼓励企业增加研发投入,加强技术创新和自主知识产权保护,都是咱们一直在做的事情。”

“只是在这一领域,要想赶上世界先进水平的半导体产业,咱们面临着巨大的技术挑战。尤其是高端芯片制造领域,如7纳米以下的集成电路制程,咱们远远落后于那些在芯片历史上有着几十年发展的西方国家。”

“想要迎头赶上,是一项庞大而艰巨的任务,需要持续的努力和创新。”

“不过不瞒徐院士,在这方面咱们已经有了一些突破,但遇到了一些关键性的问题,暂时无人能解决。”

“如果解决了这一块的问题,咱们或许能做出来接近7纳米进程的芯片。”

“而这次过来拜访您,就是想请您帮忙看看,能不能解决这个问题。”

丁经国简单的向徐川简单的介绍了一下来的目的。

听完这些,徐川有些惊讶诧异的问道:“七纳米?”

老实说,他上辈子没听说过这个消息啊。

上辈子虽然一直都在米国,但对于国内的发展他并不是没有关注。

从记忆中来看,华国真正突破七纳米级别,好像还需要一些年的时间。

其原因在于7纳米是芯片技术的一个重要里程碑,它代表了制造芯片的最先进工艺之一,七纳米以下的芯片属于先进进程芯片。

相比之前的工艺,如14纳米或10纳米,7纳米及以下的芯片使用的设计、光刻、材料等各方面都有一个重大的转折点。

不仅仅是可以在同样大小的芯片上容纳更多的晶体管,提供更强的计算和处理能力,降低功耗和热量的产生,提高电池续航时间和设备的可靠性等等。

七纳米及以下的芯片在设计材料、工艺等各方面都有巨大的改变。

比如在芯片的水平阵列中采用环栅(g)纳米线,在7纳米这个节点时,就不可避免要采用隧道fet和-v族元素沟道材料和垂直纳米线来完善。

而7纳米以上的工艺则不需要这些。

说起来,芯片的发展和设计制造,其实就像是一栋楼的楼梯。

从高层逐渐往下走,每下降一点就走下一个台阶,就意味着解决一个问题。

而到了28纳米、14纳米、7纳米、5纳米、3纳米、2纳米这些楼层,就意味着你到了对应楼层的转折处。

能支撑你往下继续走的,不仅仅是某一个问题的解决,而是某一系列,甚至更多的问题解决。

光源、材料、ed、设计等等各方面,全都要突破才能继续往下沉。

比如光源,不同的光波长不同,能够进行曝光尺度也不同,而在芯片领域,随着微电子制造工艺的不断进步,芯片晶体管的尺寸越来越小,对器件结构的要求越来越高,就需要更高分辨率和更精细的曝光图案。

稍微关注一点这块的人,目前市面上的光刻机大体上分为duv和euv。

duv是目前比较成熟的方案,现阶段最高采用193n波长的深紫外光源,被广泛应用在7n以及7n以前的工艺里。

而伴随着工艺的继续微缩,duv已经力不从心,就需要使用极紫外光光源的euv设备了。

所以徐川才对这位丁蔀长所说的7纳米这么惊讶。

因为按照他的了解,老实说这的确不是华国现在就做出来了的东西。

虽然丁经国说还有难题未突破,但能这么说,那就肯定只差最后一点点了。

徐川惊讶的是,国家这些年暗地里瞒着米国等西方国家搞了不少的

上一章 目录 +书签 下一页